干泵的應用是廣泛的，主要有以下幾個方面：
1）低壓化學氣相沉積中的多晶硅制備工藝中；
2）半導體刻蝕工藝。在這些生產工藝中往往用到或生成腐蝕性氣體和研磨微粒；
3）除半導體工藝外的某些產生微粒的工藝。在這些工藝中，不希望微粒混入泵油中，而希望微粒排出泵外，用一定型式的干式機械真空泵可以滿足要求；
4）化學工業、醫藥工業、食品工業中的蒸餾、干燥、脫泡、包裝等，防止有機溶劑造成污染，適合用干式真空泵；
5）用做一般無油清潔真空系統的前級泵，以防止油污染。

近年來，干泵得到迅速的發展，國外多家大真空公司都研制出了新型的干泵。國內的許多單位也一直在進行干泵的開發研制工作，如東北大學、沈陽真空技術研究所、上海真空泵廠等。目前，干泵主要分為接觸型及非接觸型。接觸型的干式泵有葉片式、凸輪式、往復活塞式、膜片式等，這類泵的速度較低，適用于小容量高壓縮比（單級壓縮比）。非接觸型的干式泵有羅茨型、爪型、螺桿型、渦旋型等，其速度較高，適用大容量，低壓縮比（指單級壓縮比）。不同類型的干式泵具有各自的特點。使用時可根據不同的用途加以選擇。